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等離子體表面清洗是指通過等離子體與材料表面的油脂、氧化物等產(chǎn)生一系列物理、化學作用，從而揮發(fā)和清除污染物，但材料的整體結構和性能保持原狀不受影響。

等離子體表面清洗技術起源于20世紀初，已運用于各種電子元器件的制造過程中，促進了現(xiàn)代電子通訊業(yè)的發(fā)展。物質(zhì)通常以肉眼可見的固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)三種形態(tài)存在，但在一些特殊情況下，還存在著不同于常見的固液氣三態(tài)的物質(zhì)：（1）高速運動著的電子；（2）處于激發(fā)過程中的中性原子、分子、原子團(自由基)；（3）離子化的原子、分子；（4）分子解離反應過程中生成的紫外線；（5）未反應的分子、原子等。這些物質(zhì)雖然存在的狀態(tài)比較復雜，但總體上仍然處于電中性狀態(tài)，這些特殊的物質(zhì)形態(tài)，就稱為等離子體狀態(tài)，又稱為物質(zhì)的第四態(tài)。在地球大氣中的電離層和太陽表面存在有等離子體，用人工方法也可獲得等離子體，如將處于低氣壓狀態(tài)的氧氣、氮氣、水蒸汽等氣體分子置于高頻電場中，產(chǎn)生輝光放電，其中高速運動的原子、分子、電子和帶有正負電荷的原子及分子互相碰撞，結果又激發(fā)出電子，而本身又處于激發(fā)狀態(tài)或離子狀態(tài)，此時的狀態(tài)就是人工制造的等離子體狀態(tài)。簡單地說，等離子體就是一團由正離子、電子、自由基和中性氣體原子所組成的會發(fā)光的氣體團。

等離子體表面清洗技術原理：

等離子體清洗時與材料表面發(fā)生兩種主要的反應，一是利用自由基與表面做化學反應，在壓力比較高時，對自由基的產(chǎn)生有利，此時化學反應起主導作用；二是利用離子與表面做物理反應，即進行純物理的撞擊，把材料表面的原子或附著的原子打掉，離子的能量越高，撞擊效果越好，在壓力較低的情況下，物理撞擊將是主要的。

此外，等離子體中自由基的存在對于清潔效果起著非常重要的作用，因為它們可以與物體表面發(fā)生化學鏈式反應，產(chǎn)生新的自由基或進一步降解，可能降解成小的揮發(fā)性顆粒清除污染物。而且紫外線具有強大的光能和穿透能力，可以穿透材料表面幾微米的深度，產(chǎn)生新的自由基，從而使附著在表面的材料分子鍵溶解的效果。

等離子體表面清洗技術作為一種清潔的干式工藝，不需要液體化學材料，省去了很多繁瑣的操作及后續(xù)處理，運行費用低，清洗后不必再對被處理材料進行干燥處理，整個過程幾分鐘就可完成，其最大的特點就是對待處理的材料沒有特殊要求，在清洗處理的同時還能改善材料本身的表面特性。